专门开发的硅片处理高纯度，全密度纯碳化硅化学气相沉积碳化硅是专门开发的硅片加工，以满足严格的要求。 • 超纯材料- 纯碳化硅化学气相沉积碳化硅，纯度大于99.9995％，无孔隙，有助于保持清洁的半导体制造工艺 • 低热-一个关键的设计参数，高强度和刚度纯碳化硅化学气相沉积碳化硅的允许使用的超薄，超轻的组件 • 抗热震性- RTP的过程从纯碳化硅化学气相沉积碳化硅的高抗热震性的利益，有助于提高升温速率和元件的使用寿命 • 可承受清洗工艺 - 高耐集中HF/HNO3湿式清洗和高温原位蚀刻与气态盐酸 • 高和低电阻率的等级 - 需要具体电气性能的应用 • 高和低的透过率等级 - 应用光学或红外透过率是关键 • 近净成形能力 - 协助制造复杂的几何形状 指定纯碳化硅化学气相沉积碳化硅用于RTP，外延，蚀刻，植入，和其他关键进程。 超清洁生产过程
配有专用的HEPA过滤系统为每个CVD碳化硅反应堆个人的海湾。 纯度大于99.9995％， 纯SiC的CVD碳化硅具有先进的半导体制造和其他超洁净过程的清洁。 • 关键的微量元素水平，远低于维持在百万分之散装 • 全密度化学气相沉积碳化硅降低可以被困在多孔材料的颗粒或清洗液 • 在化学气相淀积（CVD）过程采用超高纯度饲料气体 控制的电阻率的应用 纯碳化硅化学气相沉积碳化硅提供 HR和 LR等级高或低电阻率是必需的应用程序。控制电阻率，纯度高，耐腐蚀，使纯碳化硅CVD碳化硅使用的理想材料，在血浆中的蚀刻，离子注入，静电耗散过程。 
高电阻率（HR）级纯碳化硅人力资源品位 ，在室温下的电阻率大于10 6 ohm.cm。 
低电阻率（LR）级纯SiC的CVD碳化硅电阻小于0.1欧姆厘米。 控制 光透射率的应用 纯碳化硅化学气相沉积碳化硅是提供标准的半透明的人力资源品位低的透过率LR级需要一个不透明碳化硅的应用。我们公司内部的光学测试能力，帮助，以确保纯碳化硅CVD碳化硅满足您的光学要求。 
指定纯碳化硅LR级CVD碳化硅运动传感器或光纤温度传感器的应用场合需要低透过率材料。我们LR的档次也可在薄壁保护鞘-快速响应热电偶和光纤温度传感器。 材料和制造专家 CoorsTek是唯一有能力提供先进的解决方案，在化学气相沉积碳化硅和其他技术陶瓷，金属，和使用塑料材料的国家最先进的制造技术。我们公司内部的材料测试实验室是在业界首屈一指的测试实验室之一。让CoorsTek团队，帮助您选择最好的材料和设计的可制造性。 |