半導体 - CRAIC の技術による模造された半導体の紫外顕微鏡検査

カバーされるトピック

背景

模造された半導体の紫外顕微鏡検査

背景

CRAIC の技術は微視的分析のための紫外線目に見えるNIR 範囲の科学器械の開発者を導く世界です。 これらは助けるように設計されている QDI シリーズ紫外線目に見えるNIR マイクロ・スペクトル光度計の器械を非有害測定顕微鏡のサンプルの光学的性質含んでいますCRAIC の UVM シリーズ顕微鏡は紫外線、目に見える NIR の範囲をカバーし、目に見える範囲を越えるミクロ以下の解像度とずっと分析するのを助けます。 CRAIC の技術にまた顕微鏡のサンプルの非破壊的な分析のための CTR シリーズラマン microspectrometer があります。 そして CRAIC が得意気に無比のサービスとサポートが付いている私達の microspectrometer および顕微鏡の製品を支持することを忘れないで下さい。

模造された半導体の紫外顕微鏡検査

CRAIC の技術は広いスペクトル領域の顕微鏡、 UVM-1 紫外線の顕微鏡を発達させました。 この一義的な顕微鏡は紫外線、目に見えるおよび近い赤外線分光領域全体の高リゾリューションイメージ投射のために設計されています。 デザインの柔軟性が原因で、このシステムは個々の波長からの広いスペクトル領域にイメージ投射にできます。 これらの範囲はユーザーによって選ばれ、容易に変更されて缶詰になります。

このシステムの最初のアプリケーションの 1 つは画像の小規模の半導体回路にありました。 279 に鏡の様な事件の照明との 367 nm (FWHM) の波長範囲で視覚化されている模造されたウエファーの領域の画像は次あります。 これは画像の罰金の細部にオペレータを紫外線領域で吸収する別の方法で無色材料を調査するために非常に可能にし。

 

一次著者: ポール・マーティン先生

ソース: CRAIC の技術による模造された半導体の紫外顕微鏡検査。

 

このソースのより多くの情報のために CRAIC の技術を訪問して下さい。

 

Date Added: Apr 24, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 15. June 2013 08:04

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit