基于椭偏porosimetry有不同程度的自动化和晶圆尺寸的能力（EP ）的 EP5 ， EP12 ， EP20 Semilab工具。这是一个独特的技术来表征CVD和自旋涂层的多孔超低光的EP措施的光学特性和材料的厚度，在有机溶剂或降低压力水的吸附和解吸的变化。分析给出了低K，微孔和介孔，累计比表面积，孔互联互通，杨氏模量，厚度和折射率的孔隙大小分布的孔隙率。
EP资格的密封层图案和毯子晶圆。该工具检测到通过密封层的溶剂扩散。溶剂的扩散导致在光谱椭偏仪很容易检测到的层折射率的变化。
EP给人的结构信息和资格如何可以集成在双镶嵌工艺的材料。等离子源的EP允许血浆抵抗和积极等离子体和等离子不同的表面清洗材料改性研究。 IMEC也开发新的应用，如孔密封测试和杨氏模量低- K电介质使用的EP技术提取。
EP是适合来描述像其他材料：膜，燃料电池，传感器，催化表面，纳米结构和纳米复合材料，有机和无机混合接口。