CAMECA の新しい世代の浅い調査: 新しいプロセスの高度の統合のための度量衡学の解決。
半導体工業の LEXES の技術の経験の十年にわたるからの EX-300 利点: たくさんの LEXFAB-300 浅い調査はトップ10 の半導体の製作設備で世界的に取付けられていました。 EX-300 は SiGe および HKMG のような新しく挑戦的な適用のために目標とされ、高い生産の収穫を達成している間 marketof によって進められる論理及びメモリ素子、記憶装置に時間を加速することを設計します。
のそして向こう前陣プロセス問題 32nm ノードのための選択の用具
無接触、非破壊的な LEXES の技術は表面および近い表面に化学成分の直接測定のための独特な解決です。
EX-300 は現在の挑戦的なプロセスに古典的な度量衡学の範囲を拡大する補足の機能のパネルを提供します:
- 超浅いインプラント: 低負荷、高い濃度のインプラントの監視。
- プロセス制御緊張したケイ素: B のようなエピタキシアル層の化学成分そして厚さ: SiGe の andP: 層の構成の限定無しの SiC。
- HKMG の度量衡学: 酸化物および金属は両方 1 つの単一 EX-300 プラットホームによって制御されます。
CAMECA の EX-300 はよりよい真空の限界の高められた長期にわたる安定性を提供します。 下のグラフは 0.622% の全体的な RSD (1σ) の 1.97e15 at/cm2 の線量として平均のための数月にわたる再現性を示します。