Опал запускал новаторский термальный атомный инструмент низложения (ALD) слоя с ясной и удобной трассой подъема к плазме, предлагая и восходящему потоку теплого воздуха и плазме ALD в одном компактном инструменте.
Главные Особенности
Характеристики системы ALD являются следующими:
- Open нагрузил термальный инструмент ALD с вариантом плазмы
- Подъем Поля предложенный для варианта плазмы
- Малая вафля соединяет до вполне вафли 200mm - поровну соответствующие для индустрии
- и академичные институты.
Химии восходящего потока теплого воздуха и/или плазмы R&D предложены для:
- Окиси: HfO2, AlO23, TiO2, SiO2, ZnO, Дао25
- Нитриды: Олово, Согрешение34
- Металлы: Ru, Pt
Преимущества Системы ALD
Преимущества системы Опала ALD являются следующими:
- Клокотать или притяжка пара до 4 твердого или жидкостных прекурсоров
- Бардачок продутый азотом можно приспосабливать к системе имея замок нагрузки входа образца для сухой окружающей среды
- Вкладыши можно легко разделить и время чистки камеры можно уменьшить
- В-situ аналитически вариантах включите спектроскопическое включаемое ellipsometry в контрольной программе ALD
- Система использует Опаловый уровень multi-пользователя, подгонянный рецепт управляемый, PC2000TM контрольная программа которая проста использовать и для быстрого цикла ALD.
Применения ALD
Ключевые применения Опала ALD являются следующими:
- Dielectrics конденсатора Хранения
- Высокие границы диффузии коэффициента сжатия для соединений Cu
- Nano-Электроника
- Высокие-k окиси строба
- Запассивированность кристаллических фотоэлементов кремния
- Pinhole-Свободные слои запассивированности для OLEDs и полимеров
- Сильно конформные покрытия для MEMS и microfluidic применений
- Покрытие nanoporous структур
- Отсеки топливного бака
- Био MEMS