PlasmaProNGP80 компактный инструмент открыт-нагрузки для etch и низложения плазмы, предлагая ряд технологических прочессов
Разрешения etch и низложения плазмы предложений PlasmaPro NGP80 разносторонние на одиночной платформе с удобной открытой нагрузкой. Эту компактную систему можно установить и использовать легко без компрометировать отростчатое качество. Система идеально для мелкомасштабного изготовления или для R&D и самого малого к вафле 200 mm части можно обрабатывать. Быстрая нагрузка вафли и разгржать позволены открытой конструкцией нагрузки, делая ее соответствующей для продукции прототипирования, исследования и низк-тома.
Опции Конфигурации Технологического Прочесса
Опции конфигурации технологического прочесса являются следующими:
Высокопроизводительные Процессы
PlasmaPro NGP80 обеспечивает процессы высокой эффективности. Характеристики управления производственным процессом являются следующими:
- PlasmaPro NGP80 оптимизировало результаты электрода охлаждая в главном управлении производственным процессом, единообразии температуры вафли и высокой гибкости, покрывая широкий диапазон процессов
- Улучшенные отростчатые единообразие и тарифы обеспечены при помощи высок-електропроводимостьи радиальной или осево - симметричная нагнетая конфигурация
- Добавление чем datalogging 500ms значений конденсатора включает traceability и историю условий процесса и камеры
- Конц-соединенный насос turbo включает высокую скорость откачки и высокое давление на опорную поверхность.
- Ясная легкость доступа к главным компонентам для увеличенных обслуживания и сервисопригодности
- Изощренные системы управления ШИНЫ обеспечивают увеличенный поиск данных и предложения быстрые и более последовательный соответствовать
- Новый увеличенный пользовательский интерфейс
- Диагностики Недостатка и инструмента через ПО начала включающ быстрый диагноз недостатка
- Автоматическая продувка включает продувать к каждой токсической линии в свою очередь с линией притоком in-between, позволять более безопасный, польностью ый продувать контролируемый ПО начала
- Semi S2/S8 уступчивое