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Sistema Profundo del Grabado De Pistas del Silicio - PlasmaPro Estrelas100 de los Instrumentos de Oxford - Tecnología del Plasma

El PlasmaPro Estrelas 100 ha sido lanzado recientemente por los Instrumentos de Oxford. El sistema ofrece funcionamiento de proceso excelente.

El PlasmaPro Estrelas 100 se ha desarrollado con el mercado del R&D en mente y ofrece adaptabilidad de proceso excelente. Nano y las microestructuras puede ser obtenido fácilmente puesto que la dotación física se ha desarrollado con la capacidad de ejecutar Bosch y tecnologías del grabado de pistas del cryo en el mismo compartimiento.

Alise los procesos del flanco así como los grabados de pistas de la cavidad de la alta tasa se pueden realizar con el PlasmaPro Estrelas100. El sistema se diseña para asegurarse de que la amplia gama de las aplicaciones de MEMS es posible sin el cambio de la dotación física del compartimiento.

Las características principales del PlasmaPro Estrelas100 incluyen:

  • Compatible con tallas a partir del 50 a 200 milímetros, el sistema asegura la capacidad para desarrollar los dispositivos que se pueden llevar la producción usando la misma dotación física del compartimiento.
  • El embridar Electroestático y mecánico.
  • Forros Heated.
  • Estabilidad Creciente del plasma, eliminando el primer efecto del fulminante del `'.
  • La acumulación Reducida del polímero, aumentando la producción media de los fulminantes entre mecánico limpia.
  • Los MFCS cerrado-acoplados que actúan Rápidos utilizan el software diseñado originalmente para la deposición atómica de la capa.
  • El volumen de compartimiento Reducido asegura conductancia del alto-gas.
  • Bajos costos de la propiedad con la dotación física optimizada y el mando de proceso.

Last Update: 29. October 2012 11:26

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