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Sistema Profondo Incissione All'acquaforte del Silicio - PlasmaPro Estrelas100 dagli Strumenti di Oxford - Tecnologia del Plasma

Il PlasmaPro Estrelas 100 è stato lanciato recentemente dagli Strumenti di Oxford. Il sistema offre la prestazione trattata eccellente.

Il PlasmaPro Estrelas 100 è stato sviluppato con il mercato di R & S della mente ed offre la flessibilità trattata eccellente. Nano e le microstrutture può essere ottenuto facilmente poiché il materiale è stato sviluppato con la capacità di eseguire Bosch e le tecnologie incissione all'acquaforte di cryo nella stessa camera.

Lisci i trattamenti del muro laterale come pure incissione all'acquaforte dell'intercapedine di tasso alto possono essere eseguite con il PlasmaPro Estrelas100. Il sistema è destinato per assicurare che la vasta gamma delle applicazioni di MEMS sia possibile senza cambiare il hardware della camera.

Le funzionalità principali del PlasmaPro Estrelas100 includono:

  • Compatibile con le dimensioni da 50 a 200 millimetri, il sistema assicura la capacità per sviluppare le unità che possono essere catturate a produzione facendo uso dello stesso hardware della camera.
  • Pressione Elettrostatica e meccanica.
  • Rivestimenti interni Heated.
  • Stabilità Aumentata del plasma, eliminante primo effetto del wafer del `'.
  • L'accumulazione Diminuita del polimero, aumentante la capacità di lavorazione media dei wafer fra meccanico pulisce.
  • I MFCS chiuso-accoppiati agenti Veloci utilizzano il software originalmente progettato per il deposito atomico del livello.
  • Il volume di camera Diminuito assicura la conduttanza del alto-gas.
  • Bassi costi della proprietà tramite hardware e controllo dei processi ottimizzati.

Last Update: 29. October 2012 11:24

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