主導的基本層證言 (ALD)系統製造商 Picosun Oy，芬蘭，提供科技目前進步水平 ALD 系統的被贏取的公開招標到隆德，瑞典大學。 現在安裝了 SUNALE (TM) R-100 ALD 反應器。 階段驗收試驗在仅五天的一個記錄時間被執行了。
評估組，由固態物理學，隆德大學的工程系，稱讚分部的設置 Picosun SUNALE (TM) R-100 ALD 反應器的技術規格。 回應房間的設計和氣體冷卻系統視為是有利的。 單獨氣體入口可能減少交互汙染; 容易地可移動的熱牆壁回應房間、三通的閥門排氣管的和其他這樣創新在 R-100 設計注意作為贏取的功能由評估組。
一件重要時新商品在 Picosun 的設計是 ALD 系統的綜合化以啟用處理的手套盒在氧氣和無水氣氛，一個重要首要條件的範例允許優質界面的創建，即 III-V 材料。 「與 ALD 設備一起的好技術概念的此特殊功能明顯地是一個決定性的因素在我們的決策過程中」，伊馮馬克西莫博士說隆德大學的。
「其外， SUNALE R-100 設備有一個自動推力胳膊和軟件與觸摸屏界面，簡化這個系統的運算。 從 Picosun Oy 的系統提供技術上更加有利的解決方法」，在他們的最終證書文件的評估組狀態。
並且，根據費用/質量/性能， Picosun 程序包為專家提供多數關於隆德。
隆德大學是其中一所最古老的大學在歐洲。 在該年其基礎， 1666，它是四在瑞典的帝國，仅先於由烏普薩拉 (1477)，大學 Tartu (1632，在今天愛沙尼亞) 和 Åbo 大學大學 (1640，今天在赫爾辛基，芬蘭)。 隆德大學，有其 40,000 個學員和 6,000 人員的在世界上一貫地被評估作為最佳的 100 所大學之一。
Picosun，瑞典 ALD 科學社區加上從其他歐洲國家地區的 ALD 專家將見面在波兒地克的 ALD 2009年會議在烏普薩拉大學的 Ångström 實驗室 2009年 6月 15日 - 16日。
Picosun 發展并且製造微型和 (ALD)納米技術應用的基本層證言反應器。 Picosun 表示連續性對超出三十年 ALD 反應器製造在芬蘭。 Picosun 在 Espoo，芬蘭根據并且有其美國總部在底特律，密執安。 SUNALE (TM) ALD 進程工具被安裝以多種大學、研究所和公司在歐洲、美國和亞洲。
圖奧莫 Suntola， ALD 技術的發明者博士，是理事的成員 Picosun 的。 世界的最有經驗的 ALD 反應器設計員斯芬 Lindfors 是 Picosun 的首席技術軍官和其中一名這家公司的創建者。 Picosun Oy 是斯蒂芬行業公司 Oy 的部分。