Picosun Oy, Finnland-Basierter globaler Hersteller von hochmodernen AtomSchicht-Absetzungs (ALD)anlagen kündigte heute an, dass die Abteilung von Material-Chemie, am Ångström-Labor von Uppsala, Schweden hat gekauft, genehmigt für Gebrauch und bereits Picosuns Anlagen SUNALE ALD betreibt.
Das Ångstrom-Labor setzt eins von Europas höchstentwickelten Labors für Materialwissenschaft, einschließlich den größten Hochschulreinraum in den Nordischen Ländern, das Ångström-Mikrostruktur-Labor fest. Es setzt Teil der Universität von Uppsala fest, im Jahre 1477 gegründet.
„Wir sind von der Tatsache, dass eine prestigevollsten CVD der Welt vom (Chemischer Dampf-Absetzung) und ALD-Forschungsinstitutionen hat Picosun als seine ALD-Anlagen Anbieter und Partner gewählt, wenn sie neue ALD-Anwendungen“ entwickelten, sagen Juhana Kostamo, Direktor von Picosun profund erfreut. „Unsere Zusammenarbeit mit dem Ångström-Labor verstärkt unsere Stellung im Skandinavischen Markt und noch einmal Shows, wie stark wir in der Anlagenentwicklung sind und wie groß unsere Kleinteile sind.“
„Die Zusammenarbeit zwischen Picosun und dem Ångström-Labor, Abteilung von Material-Chemie ist von den starken gegenseitigen Zinsen. Beide Parteien haben eine lange Erfahrung der Forschung und Entwicklung in den Bereichen von ALD und von CVD und durch Zusammenschluss uns in der Lage sind, schnelleren Fortschritt zu machen. Wir haben eine ALD-Anlage von Picosun wegen der Flexibilität in der Auslegung, eindrucksvolles zu handhaben prozesskontrolliertes und Leichtigkeit,“ sagt ehemaligen Kopf der Ångström-Labors, ehemaligen stellvertretenden Rektor, verantwortlich für Wissenschaft und Technik an Uppsala-Universität, Professor Jan.-Otto Carlsson gewählt.
Professor Carlsson führt aktuell das Forschungsprogramm der anorganischen Chemie der Abteilung von Material-Chemie des Ångström-Labors. Die Arbeit seiner bestimmten Forschungsgruppe wird in Richtung zu den grundlegenden Studien der chemischer Bindung, der Zelle und der Reaktivität am Dampf/an den festen Schnittstellen ein Profil erstellt. Die Neuen Synthesewege, basiert auf z.B. Opfermonomolekularen schichten, werden erforscht, indem man Zwischenimpulse in ALD-Prozessen vorstellt, um neue Reaktionswege zu öffnen. Es bedeutet, dass die Zwischenflächen- Chemie justiert wird, indem man die Wechselwirkung zwischen Oberflächenbeendigungen und Vorläufern verwendet. Dieses neue Konzept öffnet sich für Synthese von neuen Klassen von Materialien, einschließlich multilayers und künstliche Superlattices.
Andere Ångström-Forschungsgruppen unter Verwendung der neuen ALD-Anlage sind Gruppe Professors Mats Bomans, die nanoporous anodische Tonerde studieren und Gruppe Professors Anders Hårstas, die ALD von Metalloxiden studiert. „Die Anlage SUNALE entbunden vor ALD wurde an das Ångström-Labor gerade einigen Wochen und es gibt bereits beträchtlichen Zinsen von anderen internen Forschungsgruppen am Ångström-Labor für eine Vielzahl von Anwendungen (Mikroelektronik, Solarzellen und Katalyse),“ sagt Professor Carlsson.
Das Ångström-Labor wird nach zwei Uppsala-Professoren, Anders Jonas Ångström (1814-1874) und seinem Sohn Knut Ångström (1857-1910) benannt. Anders Jonas stellte ein Gerät für helle Wellenlänge vor, die später als internationaler Standard unter dem Namen 1 Ångström (Å) = 0,1 nm angenommen wurde.