因为快速的半导体行业连续开发最新的微电子学创新，更小的要素 - 例如密封 - 是经常俯视，但是非常重要的，一部分的这个进程。
要帮助其客户创建最新的行业推进， Simrit 开张二种新的碳氟化合物 (FKM) 化合物 - VO628 和 VO793 - 在西部 SEMICON® 被暂挂的 2010 期间 7月 13日到 15日在旧金山。
他们的高纯度和低金属离子杂质，两重要对保证污染物不进入半导体片和筹码的清洁的房间生产， Simrit 的 VO628 和 VO793 材料特别地被创建了为使用在半导体制造进程。 两材料在各种各样的产品可以使用包括 O环和被结合的门。
“作为材料专家，是我们的工作保证行业创新由可能承受演变的化学制品，温度，并且材料威胁传统半导体应用”的开发的化合物是可能的 Simrit 分部说罗伯特 W. Keller，材料发展经理， Freudenberg NOK。 “我们的最新的物质发展， VO628 和 VO793，提供优越纯度，当仍然提供半导体行业需求的极其性能要求时”。
而 VO793 是一种 75 个名词性的词岸 A 坚硬 FKM 化合物， VO628 是一种 65 个名词性的词岸 A 坚硬 FKM 化合物。 两材料是褐色和做没有补白和最小的金属离子杂质提供优越高温和长期压缩集合特性与传统 FKM 材料比较。
对氧气铭刻和氧气等离子系统的提供的非常好的在迅速泵下来高真空系统、 VO628 和 VO793 的阻力和性能是有用的在要求高真空级别的迅速发展的半导体应用。
来源： http://www.simrit.com/