Por Cameron Chai
Las Tecnologías Aplicadas de Rigaku, un arranque de cinta en la tecnología de instrumentación analítica e industrial, ha introducido un nuevo método para probar las películas metálicas finas presentes en las obleas de silicio.
Espectrómetro Dispersivo de la Fluorescencia de la Radiografía de la Energía de Rigaku NEX CG
Las mediciones experimentales de la compañía se muestran para AlSi, AlCu, platino, titanio, nitruro titanium, bióxido de silicio y las películas de una sola capa de BPSG presentes en el silicio vigilan los fulminantes para controlar la calidad en la industria del semiconductor.
La fabricación del dispositivo del circuito, con la incorporación del semiconductor, ha implicado las aplicaciones secuenciales de varias capas materiales para terminar al ensamblaje. El método de control de proceso en la fabricación es crítico. Las métricas de la Composición y el ancho de la película son importantes hacer el funcionamiento del dispositivo apropiado, con poco margen para el desvío durante el tratamiento de materiales del semiconductor. El producto puede degradar o fallar, si cualquier desvío ocurre durante su construcción. Los efectos Nocivos pueden también ocurrir durante el tramitación futuro.
Todas Las películas de una sola capa fueron utilizadas como capa de la adherencia y eran aplicadas en las obleas de silicio con 1000 Å de SiO2. La compañía desarrolló una serie de seis diversas calibraciones para los anchos de las películas de AlCu, de AlSi, de la Pinta, del Estaño, y del Ti para mostrar el funcionamiento de NEX CG. La composición de BPSG fue determinada calculando el P.
Fuente: http://www.rigaku.com/