CAMECA 的新一代淺探測： 更新過程的先進的綜合化的計量學解決方法。
從在十年的 EX-300 福利與全語匯技術的經驗在半導體行業： 數十 LEXFAB-300 淺探測被安裝了在頂的十半導體製造設施全世界。 EX-300 為新的富挑戰性的應用被瞄準例如 SiGe 和 HKMG，并且它被設計加速時間到 marketof 提前的邏輯 & 存儲設備，當達到高生產產量時。
選擇工具為在 32nm 節點的以遠前端的處理問題和
沒有接觸，非破壞性的全語匯技術是化學成分的直接測量的一個唯一解決方法在表面和最近的表面。
EX-300 為當前富挑戰性的進程提供擴大古典計量學的域補充功能面板：
- 超淺植入管： 低能源，高濃度植入管監控。
- 程序控制緊張的硅：化學成分和厚度在外延層例如 B ：SiGe andP ：SiC，沒有在層構成的限制。
- HKMG 計量學： 氧化物和這種金屬是由一個唯一 EX-300 平臺控制的。
CAMECA 的 EX-300 提供與更好的真空限額的改進的長期穩定性。 這個下面圖形顯示增殖率在平均數的幾個月作為 1.97e15 at/cm2 劑量與全球 RSD (1σ) 的 0.622%。